Bei Druckmessungen in der Halbleiterindustrie, in Laboren oder der Analytik ist die Auswahl des passenden Prozessanschlusses entscheidend für eine zuverlässige und sichere Messung.
VCR – für anspruchsvolle Gasanwendungen
Für die Messung von technischen und hochreinen Gasen kann der DMP 331 mit einer metallisch dichtenden VCR-Verbindung ausgestattet werden. Die metallische Dichtung kommt ohne Elastomer im Prozessbereich aus und reduziert dadurch das Risiko von Ausgasung, Permeation und Kontamination. Gleichzeitig bietet die Verbindung eine hohe chemische Beständigkeit und sehr niedrige Leckraten.
Damit eignet sich die VCR-Ausführung insbesondere für hochreine, aggressive oder reaktive Gase, wie sie beispielsweise in der Halbleiterindustrie eingesetzt werden.
Kleinflansch (KF) – für Vakuumanwendungen
Für Vakuumanwendungen ist der DMP 331 mit einer Kleinflansch-Verbindung (KF) erhältlich. Die Abdichtung erfolgt über einen O-Ring. Ein Spannring ermöglicht eine schnelle und werkzeuglose Montage und Demontage.
Dank der großen Auswahl an Adaptern und Zubehör lässt sich die KF-Ausführung flexibel in bestehende Vakuumsysteme integrieren. Sie eignet sich damit für zahlreiche industrielle, labortechnische und analytische Vakuumanwendungen.
Mit VCR und KF bietet der DMP 331 somit zwei auf unterschiedliche Anforderungen ausgelegte Anschlusskonzepte: VCR für anspruchsvolle Gasapplikationen und KF für flexible Vakuumanwendungen.
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