En la medición de presión en la industria de semiconductores, laboratorios o aplicaciones analíticas, la selección de la conexión de proceso adecuada es fundamental para garantizar una medición fiable y segura.
VCR – para aplicaciones exigentes con gases
Para la medición de gases técnicos y de alta pureza, el DMP 331 puede equiparse con una conexión VCR con sellado metálico. El sellado metálico prescinde de elastómeros en la zona de proceso y, por tanto, reduce el riesgo de desgasificación, permeación y contaminación. Al mismo tiempo, la conexión ofrece una elevada resistencia química y tasas de fuga muy bajas.Por ello, la versión VCR resulta especialmente adecuada para gases de alta pureza, agresivos o reactivos, como los utilizados, por ejemplo, en la industria de semiconductores.
Brida pequeña (KF) – para aplicaciones de vacío
Para aplicaciones de vacío, el DMP 331 está disponible con una conexión de brida pequeña (KF). El sellado se realiza mediante una junta tórica (O-ring). Un anillo de sujeción permite realizar el montaje y desmontaje de forma rápida y sin herramientas.
Gracias a la amplia gama de adaptadores y accesorios disponibles, la versión KF puede integrarse de forma flexible en sistemas de vacío existentes. De este modo, resulta adecuada para numerosas aplicaciones industriales, de laboratorio y de análisis en el ámbito del vacío.Con VCR y KF, el DMP 331 ofrece dos conceptos de conexión diseñados para diferentes requisitos: VCR para aplicaciones exigentes con gases y KF para aplicaciones de vacío flexibles.
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